Effects of the deposition parameters on the growth of ultra-thin and thin SiO2 films prepared by RF magnetron sputtering / Mustarelli Piercarlo; Marabelli Franco; E. Quartarone; M.P. Infante Garcia; E. Bontempi. - In: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY. A. VACUUM, SURFACES, AND FILMS. - ISSN 0734-2101. - STAMPA. - 25(2007), p. 485.

Effects of the deposition parameters on the growth of ultra-thin and thin SiO2 films prepared by RF magnetron sputtering

MUSTARELLI, PIERCARLO;MARABELLI, FRANCO;QUARTARONE, ELIANA;
2007

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